由奥宝科技和LTSolar共同投资的OLTSolar有限责任公司今日宣布公司将在中国国际太阳能光伏展会（SNEC）的E3-828展位推介一款用于生产晶体硅太阳能电池的PECVD新系统。
AuroraPECVD?共有三个型号，是一款用于晶硅光伏电池生产的氮化硅沉积系统。借助OLT太阳能的核心科技，加强化线性中空阴极（ELH）喷头，该设备能够以最快的沉淀速度实现最优质的SiNx(ARC)涂层沉积。
通过引进多向无托盘基板处理流程，AuroraPECVD?从操作环境中移除了载板并消除了由多个载板所导致的流程多变性，从而改进了工艺的一致性与重复性。AuroraPECVD?可在室温下处理基板，无需外部加热或冷却，极大地降低了能源消耗与所有者的总体成本。通过采用ELH喷头，该系统确保能够减少工艺气体的消耗，同时作为一种多功能PECVD反应器，该系统可单独或连续沉淀多种薄膜，包括SiNx、SiOx、SiON、a-Si等。AuroraPECVD?以其高性能、低损耗和低成本为行业带来了相当大的竞争优势。
对于公司参与此次参展，OLTSolar的首席执行官WendellBlonigan先生说：“对公司来说，这是一个重要的里程碑，我们非常高兴能够参加中国国际太阳能展（SNEC）。通过结合创新的PECVD反应器的设计、崭新的生产系统架构以及奥宝科技的全球布局，OLTSolar将能够更好地支持太阳能光伏市场的不断发展。”
Blonigan先生将于5月18日下午3点15分在上海浦东嘉里大酒店1-3号会议厅中举行的国际太阳能光伏大会中就以下论题发表演讲：“提供今日降低生产成本的方案并致力未来技术发展趋势需求的PECVD方案。”
